华为新机发布带动光刻机板块！多只光刻机概念股大涨！

华为Mate 60 Pro手机的发布，不仅带动了华为手机概念股的上涨，还同时带动了光刻机概念股的上涨，而且在本周一华为概念股大分歧之时，光刻机概念股依然表现强势，板块核心个股张江高科、冠石科技等走出4连板走势。

那么光刻机概念股走强有何逻辑呢？分析人士认为，一方面是华为新机实现了5G网速，也就意味着华为在芯片方面取得了重大突破。专业人士拆解后发现华为Mate 60 Pro最核心的麒麟9000S芯片是中芯国际生产的7nm芯片。专业人士推测中芯国际用较为老旧的ASML光刻机，采用多重光刻法，通过4次或更多次光刻，实现了7纳米制程芯片！

多重光刻法会带来光刻机相关材料消耗需求增加。同时，华为的突破再次催生了市场的国产替代情绪。此外，面对外部可能的进一步打压，光刻机方向也有望获得更多的政策与资金扶持。

最后就是，路透社于9月5日报道称大基金三期正在筹备，计划融资约3000亿元。目前尚无官方信息，若报道属实，资金规模超越前两期，而光刻机是我国芯片的薄弱环节，预期会得到大基金的扶持。

多重曝光将带动3大耗材需求

光刻是指在特定波长光线的作用下，将设计在掩膜版上的集成电路图形转移到硅片表面的光刻胶上的技术工艺。为了完成图形转移，需要经历沉积、旋转涂胶、软烘、对准与曝光、后烘、显影、坚膜烘焙、显影检测等8道工序，检测合格后继续进行刻蚀、离子注入、去胶等步骤，并视需要重复制程步骤，建立芯片的“摩天大楼”。

泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。直写式光刻精度较低，多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前的主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺、后道先进封装和中高世代线的FPD生产。

光刻机历经五代，波长从436nm缩小约30倍，达到13.5nm，对应节点从μm级升级到最先进的3nm，光源波长的缩短支撑了摩尔定律的发展，同时摩尔定律对芯片性能、成本的追求又催动光刻机在分辨率、加工效率等方面不断进步，相互实现。

当光刻机性能不足时，多重曝光是变相提升芯片制程的唯一办法。不同型号光刻机有着相对应的光刻精度，比如ASML的1980Di光刻机，适合制造28nm，但引入“多重曝光”技术后，1980Di型号光刻机也可以生产14nm，甚至7nm制程芯片，根据公开信息，1980Di正是中芯国际唯一不受管制的ASML光刻机，中芯国际或是利用多重光刻技术实现突破，造出了7nm芯片！

多重曝光将原本一层光刻的图形拆分到多个掩模上，利用光刻Litho和刻蚀Etch实现更小制程。1.35NA的浸没式DUV分辨率约38nm，单次曝光能满足28nm逻辑节点，在2015年EUV光刻机量产之前，台积电最先进制程已发展到16/12nm，实现手段便是多重曝光技术。

根据华安电子研报，先进光刻机受限的背景下，先进制程扩产生产需要多重曝光技术反复涂胶-光刻-显影-刻蚀等工艺流程以达到更小线宽，而每次曝光都需要重新清洗后进行涂胶显影工艺。

因此，多重曝光技术受益的就是清洗涂胶显影设备以及在反复清洗-涂胶-光刻-显影-刻蚀工艺中使用的清洗设备耗材、湿化学品，也将需要反复进行以上工艺，将大量增加光刻胶、湿化学品和设备清洗量。

近期光刻胶概念股容大感光、掩膜版厂商冠石科技、清洗设备厂商蓝英装备走强，就是这个逻辑。

光刻机国产替代空间较大

2022年全球晶圆前道设备销售941亿美元，光刻机占17%，是IC制造的第三大设备，但却是单机价值量最大的设备。据ASML财报测算，2022年单台EUV光刻机价格约1.8亿欧元，浸没式DUV约6500万欧元。

根据SEMI预测，2022年光刻机占半导体设备市场份额达23%，市场规模232.3亿美元。其中，全球光刻机三大巨头荷兰的ASML、日本的Canon/Nikon在2022年光刻机营收分别为161/20/15亿美元，市场份额达82%/10%/8%；出货量分别为 345/176/30 台，市场份额63%/32%/5%。全球仅ASML能生产高端EUV光刻机。可以说，3家巨头基本垄断了全球光刻机市场。

据中国海关总署数据，2022年中国大陆IC用光刻机进口金额共39.7亿美元。而为了限制我国芯片技术的发展，海外高端光刻机进口已经被禁止，因此光刻机产业链有着迫切的国产替代需求。  

我国光刻机攻尖采取类ASML的模式，细分各科研院所、高校做分系统，再由SMEE进行整机组装。中科院微电子所、长光所、上光所，清华大学、浙江大学、哈工大等均参与光刻机的研发，目前干法光刻机的分系统基本通过验收，陆续产业化落地。

目前，上海微电子光刻机技术在国内领先，目前已可量产90nm分辨率的ArF光刻机，28nm分辨率的光刻机也有望取得突破。

多只光刻机概念股大涨！机构和游资围猎板块“中军”！

光刻机集精密光学、机械和控制、材料等众多最尖端技术于一身，主要包括光源系统、照明系统、投影物镜系统、双工件台系统、以及传输系统 （光罩+晶圆）、调平调焦系统、对准系统等；同时需要极严苛的环境控制、整机控制以及整机软件分析系统。

光刻机制造难度很高，以一台ASML EUV光刻机为例，由来自全球近800家供应商的多个模块和数十万个零件组成。每个模块在ASML遍布全球的工厂中生产，再运往荷兰总部组装。国内上海微电子90nm的干法DUV光刻机，也包括13个分系统，3万个机械件，200多个传感器，且要求每一个都稳定，存在高壁垒。

光刻机主要结构

我国光刻机产业链有着巨大的市场空间和国产替代需求，因此产业链各个环节公司都有望受益。笔者梳理出了A股光刻机概念股主要公司名单，供大家参考。其中，有5只光刻机概念股已经大涨超40%。

其中，张江高科目前是板块“中军”，该公司持股国产光刻机龙头公司上海微电子约11.73%的股份。9月11日的龙虎榜显示，3家机构买入近6亿元，顶级游资“炒股养家”常用席位买入1亿元。

风险揭示

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